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Sviluppo di film sottili di ossido di nichel per il rilevamento di gas ambientali

by Ravishankar Ramesh Ambi
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Book cover type: Paperback
  • ISBN13: 9786630076042
  • Binding: Paperback
  • Subject: N/A
  • Publisher: Edizioni Sapienza
  • Publisher Imprint: Edizioni Sapienza
  • Publication Date:
  • Pages: 72
  • Original Price: GBP 42.0
  • Language: Italian
  • Edition: N/A
  • Item Weight: 109 grams
  • BISAC Subject(s): Physics / General

Questo libro tratta la sintesi e la caratterizzazione del NiO depositato con il metodo della Chemical Bath Deposition utilizzando una soluzione di Ni(NO3)2.6H2O. L'indagine di diffrazione dei raggi X ha mostrato una struttura cristallina cubica del NiO con orientamento preferito lungo (200). Le immagini di microscopia elettronica a scansione hanno mostrato una struttura morfologica porosa composta da nanosheet. La rete di nanostrati e vuoti collegati tra loro offre un gran numero di percorsi e siti pi� reattivi per la diffusione del gas. L'immagine TEM rivela una dimensione media di 5 nm per il NiO. L'AFM rivela una rugosit� di 107,9 nm per il NiO depositato a 7 h. La misurazione BET fornisce un'area superficiale specifica di 110,42 m2g-1 . Lo studio XPS ha mostrato la presenza di stati chimici misti Ni2+ e Ni3+ del Ni a circa 853,70 e 855,44 eV, rispettivamente, sulla superficie del NiO a causa della non stechiometria del film. L'energia di band gap diretta di circa 3,6-3,7 eV � stata ottenuta mediante misurazione UV-Vis per tutti i film di NiO. Il 45,6% di risposta a 100 ppm di NO2 a 200 C con T_risposta = 13 s e T_recupero = 146 s. La risposta pi� alta del 45,6% a 100 ppm di NO2 ha dimostrato che il NiO � un buon candidato per il monitoraggio ambientale a una temperatura di esercizio moderata di 200 C.

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